一种硅的中红外抗反射微结构的制备方法

摘要

本发明提供了一种硅的中红外抗反射微结构的制备方法，包括以下步骤：首先通过绘图软件设计所需的刻蚀图案，然后在清洗过后的硅表面均匀涂覆一层紫外光刻胶，经过紫外曝光，通过显影液显影将绘图软件设计出来的图案转移到覆有光刻胶的硅片上，此时通过电子束蒸发的方法在此硅片上蒸镀一层金的薄膜，基于湿法刻蚀的原理，通过调节刻蚀时间和刻蚀液体的组份进行刻蚀深度的控制，得到高度可控的高深宽比的硅微米阵列结构。本发明所述的制备方法具有成本低，加工方便，刻蚀深度大且可控等优点，在硅的中红外抗反射领域具有广泛的应用前景。