首页> 中国专利> 一种蛾眼微结构的制备方法、抗反射基板及电子产品

一种蛾眼微结构的制备方法、抗反射基板及电子产品

摘要

本发明公开了一种蛾眼微结构的制备方法、抗反射基板及电子产品,涉及显示技术领域。所述方法包括:提供基层;在基层上形成金属膜层;对金属膜层进行蚀刻,以得到蛾眼抗反射微结构图案;对金属膜层进行氧化,进而在基层上形成蛾眼抗反射微结构。通过上述方式,本发明能够蚀刻到理想的微结构形貌和深宽比,制备出高深宽比的蛾眼微结构。

著录项

  • 公开/公告号CN107203014A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-09-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉华星光电技术有限公司;

    申请/专利号CN201710404974.X

  • 发明设计人 杨勇;

    申请日2017-06-01

  • 分类号

  • 代理机构深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人何青瓦

  • 地址 430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋

  • 入库时间 2023-06-19 03:24:39

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-27

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G02B1/118 申请公布日:20170926 申请日:20170601

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2017-10-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B1/118 申请日:20170601

    实质审查的生效

  • 2017-09-26

    公开

    公开

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