公开/公告号CN104658927B
专利类型发明专利
公开/公告日2018-03-30
原文格式PDF
申请/专利权人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;
申请/专利号CN201310582811.2
申请日2013-11-19
分类号H01L21/58(20060101);H01L21/3105(20060101);H01L21/316(20060101);B81C3/00(20060101);
代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;
代理人骆苏华
地址 201203 上海市浦东新区张江路18号
入库时间 2022-08-23 10:09:21
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-03-30
授权
授权
2015-06-24
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/58 申请日:20131119
实质审查的生效
2015-05-27
公开
公开
机译: 用于生产功率半导体组件的硅半导体晶片减薄,包括减薄抛光晶片,直到获得预设晶片厚度小于特定微米的半导体晶片
机译: 半导体晶片减薄方法,包括在凹槽的一组侧面上沉积保护层,将晶片粘贴在支撑件上,以及从晶片的背面开始直到到达凹槽组的底部来减薄晶片
机译: 减薄的半导体晶片和减薄半导体晶片的方法