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半导体晶片的键合减薄优化方法

摘要

一种半导体晶片的键合减薄优化的方法,包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底具有器件面和与器件面相对的背面,所述半导体衬底具有中心区域和边缘区域,且所述边缘区域半导体衬底具有与水平面相对倾斜的表面;沿所述器件面向背面的方向,去除边缘区域部分厚度的半导体衬底;在所述去除边缘区域部分厚度的半导体衬底器件面形成氧化层;提供载体,将所述具有氧化层的半导体衬底器件面与载体的键合面进行键合;沿所述半导体衬底背面向器件面的方法,减薄所述半导体衬底至预定厚度。本发明提高半导体衬底器件面与载体的键合强度,优化键合性能,避免发生半导体衬底从载体表面脱落的问题,从而杜绝了半导体衬底破裂问题,提高半导体晶片键合减薄良率。

著录项

  • 公开/公告号CN104658927B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-03-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201310582811.2

  • 发明设计人 王娉婷;奚民伟;

    申请日2013-11-19

  • 分类号H01L21/58(20060101);H01L21/3105(20060101);H01L21/316(20060101);B81C3/00(20060101);

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人骆苏华

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江路18号

  • 入库时间 2022-08-23 10:09:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-03-30

    授权

    授权

  • 2015-06-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/58 申请日:20131119

    实质审查的生效

  • 2015-05-27

    公开

    公开

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