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气相预掺杂和中子辐照掺杂组合的区熔硅单晶的生产方法

摘要

本发明公开一种气相预掺杂和中子辐照掺杂组合的区熔硅单晶的生产方法,有:1.气相预掺杂:(1)装炉、抽真空、充氩气;(2)硅棒预热;(3)化料;(4)掺杂;(5)熔接籽晶;(6)引晶;(7)生长细颈;(8)放肩;(9)等径生长;(10)收尾、拉断;(11)停气;(12)停炉、拆炉。2.中子辐照掺杂:将气相预掺杂生产出的硅单晶再进行中子辐照掺杂,(1)中子辐照掺杂注量的计算;(2)中子辐照装置设计;(3)中子辐照掺杂辐照条件的选择;(4)中子辐照掺杂辐照条件控制;本发明具有如下明显效果:(1)成倍的提高了核反应堆的辐照产量,(2)有效的降低了中子辐照掺杂对硅单晶的晶格损伤。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2006-06-21

    授权

    授权

  • 2003-11-12

    公开

    公开

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