机译:熔盐辅助化学气相沉积工艺用于单层MOS2的替代掺杂有效改变电子结构和声子特性
2D; molten‐salt‐assisted chemical vapor deposition; molybdenum disulfide; substitutional doping;
机译:熔盐辅助化学气相沉积工艺,用于单层MOS2的替代掺杂,有效改变电子结构和声子特性
机译:通过过渡金属的替代掺杂来调制MoS2单层板的电子,磁性和化学性质
机译:通过卤化钠辅助化学气相沉积生长缺陷钝化和光致发光的单层MOS2晶体
机译:通过化学气相沉积制备的连续单层MOS2的生长机理
机译:通过化学气相沉积合成单层MOS2
机译:校正:使用加热的黄铜辅助甲醇的热化学气相沉积法制备的铝掺杂ZnO纳米结构的增强的光致发光和拉曼性能
机译:PTYPE通过化学气相沉积在大区域单层MOS2中掺杂