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一种SiC单晶生长压力自动控制装置

摘要

本发明公开了一种SiC单晶生长压力自动控制装置,该装置包括真空室、进气气源、真空泵、变频器、控制单元,进气气源通过管道与真空室上的进气口相连,真空泵通过管道与真空室上的抽气口相连,采用压力传感器来测量真空室内压力,控制单元按设定程序并根据压力传感器的反馈信号自动控制变频器的工作,变频器直接控制真空泵的工作。通过变频器对真空泵进行控制后,因变频器的频率可在0~50之间连续变化,相应地,真空泵的抽速也可在0~额定抽速之间进行连续变化,线性度高,因而压力控制灵敏度高,波动性小,可进行自动控制。

著录项

  • 公开/公告号CN1247832C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-03-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院物理研究所;

    申请/专利号CN200310113522.4

  • 申请日2003-11-14

  • 分类号C30B23/00(20060101);C30B29/36(20060101);

  • 代理机构11003 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人尹振启

  • 地址 100080 北京市海淀区中关村南三街8号

  • 入库时间 2022-08-23 08:58:24

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-02-10

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C30B 23/00 变更前: 变更后: 申请日:20031114

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2008-06-11

    专利申请权、专利权的转移(专利权的转移) 变更前: 变更后: 登记生效日:20080509 申请日:20031114

    专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)

  • 2006-03-29

    授权

    授权

  • 2005-01-12

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-11-10

    公开

    公开

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