Si(111)材料应力沿表面法线分布的信息的测量方法

摘要

本发明公开了一种Si(111)材料中应力沿表面法线分布信息的测量方法，主要解决现有技术不能用x射线衍射仪获取应力沿表面法线分布信息的问题。其技术步骤是：将Si(111)材料水平放置于x射线衍射仪载物台；依次对该Si(111)材料中的(111)和(220)晶面进行对光；以不小于50nm的步长减小x射线透射深度，并在各透射深度下获取(220)晶面的布拉格角；将测得的一组布拉格角代入布拉格方程，得到一组(220)晶面的面间距；根据一组面间距计算Si(111)材料应力沿表面法线分布的信息。本发明测试成本低，对被测材料无损伤，能获取一组应力沿表面法线的分布信息。