机译:干净的Si(111),Si(100)和非晶硅表面暴露于氧气期间表面应力的演变
机译:干净的Si(111),Si(100)和非晶硅表面暴露于氧气期间表面应力的演变
机译:丙烷吸附在清洁和含氧的Au(111)和Au(100)表面上
机译:退火和外延过程中多孔表面Si 111和Si 100的演化(模拟)
机译:具有理想氢终止作用的化学蚀刻新表面清洁技术:silcon(111)和硅(100)表面的表面化学和形态。
机译:使用曲面晶体对清洁的和一氧化碳化学吸附的Platinum(111)台阶表面进行X射线光发射分析
机译:在干净的Si(100)和(110)表面上的表面状态和氧吸附的反射测量研究
机译:XeF2中高暴露后si(100)和si(111)表面的比较。