定向自组装工艺/邻近校正的方法

摘要

本发明涉及一种定向自组装工艺/邻近校正的方法，其是一种制造集成电路的方法，包含下列步骤：设计光学光罩用于形成预图案开口于在半导体基板上的光阻层中，其中，该光阻层及该预图案开口涂上经受定向自组装DSA以形成DSA图案的自组装材料。设计该光学光罩的步骤包括：使用计算系统，输入DSA目标图案，以及使用该计算系统，应用DSA模型于该DSA目标图案以产生第一DSA定向图案。此外，设计该光学光罩的步骤包括：使用该计算系统，计算该DSA目标图案与该DSA定向图案之间的残差，以及使用该计算系统，应用该DSA模型于该第一DSA定向图案及该残差以产生第二更新DSA定向图案。产生该第二更新DSA定向图案的步骤包括线性化自洽场理论方程式。