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Alternative lithographic technologies IV.
Alternative lithographic technologies IV.
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1.
Pattern density multiplication by direct self assembly of block copolymers: toward 300mm CMOS requirements
机译:
通过嵌段共聚物直接自组装进行图案密度相乘:朝300mm CMOS要求
作者:
R. Tiron
;
S. Gaugiran
;
J. Pradelles
;
H. Fontaine
;
C. Couderc
;
L. Pain
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
2.
50 keV electron multibeam mask writer for the 11nm HP node: first results of the proof of concept tool (eMET POC)
机译:
用于11nm HP节点的50 keV电子多束掩模写入器:概念证明工具(eMET POC)的首批成果
作者:
Christof Klein
;
Hans Loeschner
;
Elmar Platzgummer
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
3.
Reflective electron-beam lithography: progress toward high-throughput production capability
机译:
反射电子束光刻:向高通量生产能力发展
作者:
Regina Freed
;
Thomas Gubiotti
;
Jeff Sun
;
Francoise Kidwingira
;
Jason Yang
;
Upendra Ummethala
;
Layton C. Hale
;
John J. Hench
;
Shinichi Kojima
;
Walter D. Mieher
;
Chris F. Bevis
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
4.
Progress towards the integration of optical proximity correction and directed self-assembly of block copolymers with graphoepitaxy
机译:
含石墨外延的嵌段共聚物的光学邻近校正和定向自组装的集成进展
作者:
Chi-Chun Liu
;
Jed Pitera
;
Charles Rettner
;
Melia Tjio
;
Noel Arellano
;
Joy Cheng
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
5.
Investigation of high amp;chi; block copolymers for directed self-asssembly: synthesis and characterization of PS-b-PHOST
机译:
高奇调查定向自组装用嵌段共聚物:PS-b-PHOST的合成与表征
作者:
Nathan D. Jarnagin
;
Jing Cheng
;
Andrew Peters
;
Wei-Ming Yeh
;
Richard A. Lawson
;
Laren M. Tolbert
;
Clifford L. Henderson
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
6.
Design considerations for UV-NIL resists
机译:
UV-NIL抗蚀剂的设计注意事项
作者:
Kazuyuki Usuki
;
Satoshi Wakamatsu
;
Tadashi Oomatsu
;
Akiko Hattori
;
Shinji Tarutani
;
Kunihiko Kodama
;
Hideto Tanabe
;
Kouji Shitabatake
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
7.
Directed self-assembly of poly(styrene)-block-poly(acrylic acid) copolymers for sub-20nm pitch patterning
机译:
小于20nm间距图案化的聚苯乙烯-嵌段-聚丙烯酸共聚物的直接自组装
作者:
Jing Cheng
;
Richard A. Lawson
;
Wei-Ming Yeh
;
Nathan D. Jarnagin
;
Andrew Peters
;
Laren M. Tolbert
;
Clifford L. Henderson
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
8.
Measurement of placement error between self-assembled polymer patterns and guiding chemical prepatterns
机译:
测量自组装聚合物图案和化学引导图案之间的放置误差
作者:
Gregory S. Doerk
;
Chi-Chun Liu
;
Joy Y. Cheng
;
Charles T. Rettner
;
Jed W. Pitera
;
Leslie Krupp
;
Teya Topuria
;
Noel Arellano
;
Daniel P. Sanders
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
9.
Front Matter: Volume 8323
机译:
前题:第8323卷
作者:
Proceedings of SPIE
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
10.
Evaluation of ordering of directed self-assembly of block copolymers with pre-patterned guides for bit patterned media
机译:
用位图介质的预构图导板评估嵌段共聚物的定向自组装顺序
作者:
Takeshi Okino
;
Takuya Shimada
;
Akiko Yuzawa
;
Ryosuke Yamamoto
;
Naoko Kihara
;
Yoshiyuki Kamata
;
Akira Kikitsu
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
11.
Line-frequency doubling of directed self-assembly patterns for single-digit bit pattern media lithography
机译:
有位比特图案媒体光刻的定向自组装图案的线频加倍
作者:
K. C. Patel
;
R. Ruiz
;
J. Lille
;
L. Wan
;
E. Dobiz
;
H. Gao
;
N. Robertson
;
T. R. Albrecht
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
12.
Improved electron backscattering representation using a new class of distribution: application to EUV masks
机译:
使用新的分布类别改进了电子反向散射表示:应用于EUV掩模
作者:
T. Figueiro
;
M. Saib
;
P. Schiavone
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
13.
Proximity effect correction using multilevel area density maps for character projection based electron beam direct writing toward 14 nm node and beyond
机译:
使用多级区域密度图的接近效应校正,用于基于字符投影的电子束直接写入14 nm节点及以后
作者:
Kozo Ogino
;
Hiromi Hoshino
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
14.
Feasibility study of character projection-based electron-beam direct writing for logic LSI wiring including automatically routed area with 14nm node technology case
机译:
基于字符投影的电子束直接写入用于逻辑LSI布线的可行性研究,该布线包括具有14nm节点技术案例的自动布线区域
作者:
Shinji Sugatani
;
Takashi Maruyama
;
Yoshinori Kojima
;
Yasushi Takahashi
;
Shuzo Ohshio
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
15.
High-resolution laser direct writing with a plasmonic contact probe
机译:
等离子接触式探头的高分辨率激光直接写入
作者:
Howon Jung
;
Yongwoo Kim
;
Seok Kim
;
Jinhee Jang
;
Jae W. Hahn
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
16.
Scalable simulations for directed self-assembly patterning with the use of GPU parallel computing
机译:
使用GPU并行计算进行定向自组装图案化的可扩展仿真
作者:
Kenji Yoshimoto
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
17.
Modeling line-edge roughness in lamellar block copolymer systems
机译:
层状嵌段共聚物体系中线边缘粗糙度的建模
作者:
Paul N. Patrone
;
Gregg M. Gallatin
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
18.
Block co-polymer guided self-assembly by surface chemical modification: optimization of multiple patterning process and pattern transfer
机译:
通过表面化学改性实现嵌段共聚物引导的自组装:优化多种图案化工艺和图案转移
作者:
Lorea Oria
;
Francesc Pérez-Murano
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
19.
Feasibility study of optical/e-beam complementary lithography
机译:
光学/电子束互补光刻的可行性研究
作者:
Christoph Hohle
;
Kang-Hoon Choi
;
Martin Freitag
;
Manuela Gutsch
;
Jan Paul
;
Matthias Rudolph
;
Xaver Thrun
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
20.
Optimization of MSB for future technology nodes
机译:
针对未来技术节点的MSB优化
作者:
Hans-Joachim Doering
;
Thomas Elster
;
Matthias Klein
;
Joachim Heinitz
;
Marc Schneider
;
Ulf Weidenmüller
;
Matthias Slodowski
;
Ines A. Stolberg
;
Wolfgang Dorl
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
21.
Analysis of multibeam's scalable column for complementary e-beam lithography (CEBL)
机译:
补充电子束光刻(CEBL)的多光束可扩展色谱柱分析
作者:
Enden D. Liu
;
Cong Tran
;
Ted Prescop
;
David K. Lam
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
22.
Addressing LER through atomistic self-assembly
机译:
通过原子自组装解决LER
作者:
Victor Moroz
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
23.
Study of device mass production capability of the character projection based electron beam direct writing process technology toward 14 nm node and beyond
机译:
基于字符投影的电子束直接写入工艺向14 nm及更高节点的器件批量生产能力研究
作者:
Yoshinori Kojima
;
Yasushi Takahashi
;
Masaki Takakuwa
;
Shuzo Ohshio
;
Shinji Sugatani
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
24.
Directed self-assembly of laterally confined lamellae-forming diblock copolymers: polydispersity and substrate interaction effects
机译:
侧向形成片状二嵌段共聚物的定向自组装:多分散性和底物相互作用的影响
作者:
Hassei Takahashi
;
Nabil Laachi
;
Su-Mi Hur
;
Glenn H. Fredrickson
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
25.
EUVL compatible LER solutions using functional block copolymers
机译:
使用功能性嵌段共聚物的EUVL兼容LER解决方案
作者:
Han-Hao Cheng
;
Imelda Keen
;
Anguang Yu
;
Ya-Mi Chuang
;
Idriss Blakey
;
Kevin S. Jack
;
Andrew K. Whittaker
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
26.
A phase segregating polymer blend for 2xnm feature applications
机译:
用于2xnm功能应用的相分离聚合物共混物
作者:
Jin Li
;
Tatsuro Nagahara
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
27.
Detailed mesoscale dynamic simulation of block copolymer directed self-assembly processes: application of protracted colored noise dynamics
机译:
嵌段共聚物定向自组装过程的详细中尺度动力学模拟:持久的彩色噪声动力学的应用
作者:
Andrew J. Peters
;
Richard A. Lawson
;
Peter J. Ludovice
;
Clifford L. Henderson
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
28.
Combined dose and geometry correction (DMG) for low energy multi electron beam lithography (5kV): application to the 16nm node
机译:
低能量多电子束光刻(5kV)的剂量和几何校正组合(DMG):应用于16nm节点
作者:
Luc Martin
;
Serdar Manakli
;
Sebastien Bayle
;
Patrick Schiavone
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
29.
Zone plate focused soft x-ray lithography for fabrication of nanofluidic devices
机译:
区域平板聚焦软X射线光刻技术,用于制造纳米流体装置
作者:
Adam F. G. Leontowich
;
Adam P. Hitchcock
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
30.
Roll-to-roll manufacturing of electronic devices
机译:
电子设备的卷对卷制造
作者:
N. A. Morrison
;
T. Stolley
;
U. Hermanns
;
U. Kroemer
;
A. Reus
;
A. Lopp
;
M. Campo
;
H. Landgraf
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
31.
Sub-100 nm pattern formation by roll-to-roll nanoimprint
机译:
卷对卷纳米压印形成亚100 nm图案
作者:
Ryoichi Inanami
;
Tomoko Ojima
;
Kazuto Matsuki
;
Takuya Kono
;
Tetsuro Nakasugi
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
32.
Designing new materials and processes for directed self-assembly applications
机译:
为定向自组装应用设计新材料和新工艺
作者:
Shih-Wei Chang
;
Vivian P. W. Chuang
;
Peter Trefonas
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
33.
Selective transfer of nanostructured assemblies onto an arbitrary substrate by nanoimprinting
机译:
通过纳米压印将纳米结构组件选择性转移到任意基材上
作者:
Steven J. Barcelo
;
Min Hu
;
Ansoon Kim
;
Zhiyong Li
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
34.
REBL: design progress toward 16 nm half-pitch maskless projection electron beam lithography
机译:
REBL:朝16 nm半间距无掩模投影电子束光刻的设计进展
作者:
Mark A. McCord
;
Paul Petric
;
Upendra Ummethala
;
Allen Carroll
;
Shinichi Kojima
;
Luca Grella
;
Sameet Shriyan
;
Chris F. Bevis
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
35.
Directed self-assembly defectivity assessment. Part II
机译:
指导自组装缺陷评估。第二部分
作者:
Chris Bencher
;
He Yi
;
Jessica Zhou
;
Manping Cai
;
Jeffrey Smith
;
Liyan Miao
;
Kfir Dotan
;
Huixiong Dai
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
36.
Complementary patterning demonstration with e-beam direct writer and spacer DP process of 11nm node
机译:
电子束直接写入器和11nm节点的间隔DP工艺的互补构图演示
作者:
Hideaki Komami
;
Kenji Abe
;
Keita Bunya
;
Hideaki Isobe
;
Masahiro Takizawa
;
Masaki Kurokawa
;
Akio Yamada
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
37.
Pattern scaling with directed self assembly through lithography and etch process integration
机译:
通过光刻和蚀刻工艺集成,通过定向自组装进行图案缩放
作者:
Benjamen Rathsack
;
Mark Somervell
;
Josh Hooge
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
38.
All track directed self-assembly of block copolymers: process flow and origin of defects
机译:
嵌段共聚物的全轨定向自组装:工艺流程和缺陷来源
作者:
Paulina A. Rincon Delgadillo
;
Christopher J. Thode
;
Paul F. Nealey
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
39.
Synthesis and characterization of self-assembling block copolymers containing fluorine groups
机译:
含氟基团的自组装嵌段共聚物的合成与表征
作者:
Rina Maeda
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
40.
Active-matrix nc-Si electron emitter array for massively parallel direct-write electron-beam system
机译:
大规模并行直写电子束系统的有源矩阵nc-Si电子发射器阵列
作者:
N. Ikegami
;
N. Koshida
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
41.
Influence of thermal load on 450 mm Si-wafer IPD during lithographic patterning
机译:
光刻构图过程中热负荷对450 mm Si晶圆IPD的影响
作者:
Thomas Peschel
;
Gerhard Kalkowski
;
Ramona Eberhardt
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
|
2012年
42.
Self-consistent field theory of directed self-assembly in laterally confined lamellae-forming diblock copolymers
机译:
侧向形成片状二嵌段共聚物中定向自组装的自洽场理论
作者:
Nabil Laachi
;
Hassei Takahashi
;
Kris T. Delaney
;
Su-Mi Hur
;
Glenn H. Fredrickson
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
43.
Contact hole shrink process using directed self-assembly
机译:
使用定向自组装的接触孔收缩工艺
作者:
Yuriko Seino
;
Hiroki Yonemitsu
;
Hironobu Sato
;
Masahiro Kanno
;
Hikazu Kato
;
Katsutoshi Kobayashi
;
Ayako Kawanishi
;
Tsukasa Azuma
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
44.
Future of multiple-e-beam direct-write systems
机译:
多电子束直写系统的未来
作者:
Burn J. Lin
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
45.
Block copolymer directed self-assembly enables sublithographic patterning for device fabrication
机译:
嵌段共聚物定向自组装可实现亚光刻图案化,用于器件制造
作者:
H.-S. Philip Wong
;
He Yi
;
Xin-Yu Bao
;
Li-Wen Chang
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
46.
Imprint process performance for patterned media at densities greater than 1Tb/in2
机译:
密度大于1Tb / in2的图案化介质的压印过程性能
作者:
Zhengmao Ye
;
Scott Carden
;
Paul Hellebrekers
;
Dwayne LaBrake
;
Douglas J. Resnick
;
M. Melliar-Smith
;
S. V. Sreenivasan
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
47.
Contact-hole patterning for random logic circuits using block copolymer directed self-assembly
机译:
使用嵌段共聚物定向自组装的随机逻辑电路的接触孔图案化
作者:
He Yi
;
Xin-Yu Bao
;
Jie Zhang
;
Richard Tiberio
;
James Conway
;
Li-Wen Chang
;
Subhasish Mitra
;
H.-S. Philip Wong
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
48.
Fabrication nano-pillars pattern on PDMS using anodic aluminum oxide film as template
机译:
以阳极氧化铝膜为模板在PDMS上制作纳米柱图案
作者:
Yung-Chiang Ting
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
49.
Nanosphere lithography based technique for fabrication of large area well ordered metal particle arrays
机译:
基于纳米球体光刻技术的大面积有序金属粒子阵列制造技术
作者:
Steven J. Barcelo
;
Si-Ty Lam
;
Gary A. Gibson
;
Xia Sheng
;
Dick Henze
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
50.
Ultimate lithographic performances of advanced resists CAR or non-CAR resist?
机译:
高级抗蚀剂CAR或非CAR抗蚀剂的最终光刻性能?
作者:
Jan Frederik Van Steenbergen
;
Noboru Ootsuka
;
Xavier Buch
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
51.
Hardware implementation of iCorner2/i lossless compression algorithm for maskless lithography systems
机译:
无掩模光刻系统 Corner2 i>无损压缩算法的硬件实现
作者:
Jeehong Yang
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
52.
Integrated lithography to prepare arrays of rounded nano-objects
机译:
集成光刻技术,可制备圆形的纳米物体
作者:
Áron Sipos
;
Anikó Szalai
;
Mária Csete
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
53.
Multiple columns for high-throughput complementary e-beam lithography (CEBL)
机译:
多列高通量互补电子束光刻(CEBL)
作者:
Enden D. Liu
;
Cong Tran
;
Ted Prescop
;
David K. Lam
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
54.
Plasmonic lithography modeling and measurement of near-field distribution of plasmonic nano-aperture
机译:
等离子纳米孔的等离子光刻建模和近场测量
作者:
Yongwoo Kim
;
Seok Kim
;
Howon Jung
;
Jinhee Jang
;
Jae W. Hahn
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
55.
Design of a high positioning contact probe for plasmonic lithography
机译:
等离子光刻高定位接触探针的设计
作者:
Jinhee Jang
;
Yongwoo Kim
;
Seok Kim
;
Howon Jung
;
Jae W. Hahn
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
56.
Optimization of chemically amplified resist for high-volume manufacturing by electron-beam direct writing toward 14nm node and beyond
机译:
通过电子束直接写入14nm及以上节点的化学放大抗蚀剂的批量生产优化
作者:
Jun-ichi Kon
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
57.
Maskless EUV lithography: an already difficult technology made even more complicated?
机译:
无掩模EUV光刻:一项本来就很困难的技术变得更加复杂了吗?
作者:
Yijian Chen
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
58.
25nm pitch master and replica mold fabrication for nanoimprinting lithography for 1Tbit/inchsup2/sup bit patterned media
机译:
用于1Tbit / inch
2 sup>位图案化介质的纳米压印光刻的25nm间距母版和复制品模具制造
作者:
Hideo Kobayashi
;
Shuji Kishimoto
;
Kouta Suzuki
;
Hiromasa Iyama
;
Sakae Nakatsuka
;
Kazutake Taniguchi
;
Takashi Sato
;
Tsuyoshi Watanabe
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
59.
Multi-step Scanning Probe Lithography (SPL) on calixarene with overlay alignment
机译:
杯芳烃的多步扫描探针平版印刷术(SPL),具有重叠对准
作者:
M. Kaestner
;
I. W. Rangelow
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
60.
Planarization coating for polyimide substrates used in roll-to-roll fabrication of active matrix backplanes for flexible displays
机译:
用于柔性显示器有源矩阵背板的卷对卷制造中的聚酰亚胺基板的平面化涂层
作者:
A. Marcia Almanza-Workman
;
Ohseung Kwon
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
61.
Roll-to-roll nanopatterning using jet and flash imprint lithography
机译:
使用喷射和闪光压印光刻的卷对卷纳米图案
作者:
Sean Ahn
;
Maha Ganapathisubramanian
;
Mike Miller
;
Jack Yang
;
Jin Choi
;
Frank Xu
;
Douglas J. Resnick
;
S. V. Sreenivasan
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
62.
CP element based design for 14nm node EBDW high volume manufacturing
机译:
基于CP元素的14nm节点EBDW批量生产设计
作者:
Takashi Maruyama
;
Yasuhide Machida
;
Shinji Sugatani
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
63.
Controlling template erosion with advanced cleaning methods
机译:
使用先进的清洁方法控制模板侵蚀
作者:
SherJang Singh
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
64.
Fabrication of templates with rectangular bits on circular tracks by combining block copolymer directed self-assembly and nanoimprint lithography
机译:
通过结合嵌段共聚物定向自组装和纳米压印光刻技术,在圆形轨道上制作具有矩形位的模板
作者:
Lei Wan
;
Ricardo Ruiz
;
He Gao
;
Kanaiyalal C. Patel
;
Jeffery Lille
;
Gabriel Zeltzer
;
Elizabeth A. Dobisz
;
Alexei Bogdanov
;
Thomas R. Albrecht
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
65.
Deformations of soft imprint templates in the nanoimprint lithography
机译:
纳米压印光刻中软压印模板的变形
作者:
Jian He
;
S. Howitz
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
66.
Sub-20nm hybrid lithography using optical, pitch-division, and e-beam
机译:
使用光学,间距分割和电子束的20纳米以下混合光刻
作者:
J. Belledent
;
J. Pradelles
;
P. Pimenta-Barros
;
S. Barnola
;
L. Mage
;
B. Icard
;
C. Lapeyre
;
S. Soulan
;
L. Pain
会议名称:
《Alternative lithographic technologies IV.》
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2012年
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