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具有衬底通孔的微电子机械系统(MEMS)结构及其形成方法

摘要

本公开包括具有衬底通孔的微电子机械系统(MEMS)结构及其形成方法。MEMS结构的衬底在高温下通过融熔接合而接合到一起,这能够在密封MEMS结构的空腔之前更加完全地去除来自衬底中的介电材料的化学物。MEMS结构融熔接合减少了化学物的脱气并与空腔形成工艺相兼容。与共晶接合相比,得益于更高的接合比,通过融熔接合而接合的MEMS结构更加坚固。此外,融熔接合能够在MEMS结构中形成衬底通孔(TSV)。

著录项

  • 公开/公告号CN103224216B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-12-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;

    申请/专利号CN201210258786.8

  • 发明设计人 朱家骅;张贵松;李德浩;

    申请日2012-07-24

  • 分类号B81B7/00(20060101);B81C1/00(20060101);

  • 代理机构11409 北京德恒律治知识产权代理有限公司;

  • 代理人章社杲;孙征

  • 地址 中国台湾新竹

  • 入库时间 2022-08-23 09:50:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-12-21

    授权

    授权

  • 2013-08-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):B81B 7/00 申请日:20120724

    实质审查的生效

  • 2013-07-31

    公开

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