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用于湿法刻蚀工艺的夹具和湿法刻蚀装置

摘要

本实用新型提供了一种用于湿法刻蚀工艺的夹具和湿法刻蚀装置。具体的,本实用新型提供的用于湿法刻蚀工艺的夹具,其是基于现有的8英寸硅片的湿法刻蚀装置中的半高片架的外部特性,设计的一款与该8英寸硅片的湿法刻蚀装置的半高片架配套的夹具,即,基于半高片架的U面双孔把手,设计了一款与所述U面双孔把手可连接的手柄式专用夹具(吊架),通过将该手柄式专用夹具设置在半高片架外侧的一侧面的方式,解决了8英寸硅片的湿法刻蚀装置中的半高片架对片架上方空间要求比较大,且8英寸片架相应面积大、份量重的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN217239430U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-08-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 无锡华润华晶微电子有限公司;

    申请/专利号CN202122629035.X

  • 发明设计人 孟亚明;顾金辉;徐青青;

    申请日2021-10-29

  • 分类号H01L21/687(2006.01);H01L21/67(2006.01);

  • 代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237;

  • 代理人田婷

  • 地址 214135 江苏省无锡市太湖国际科技园菱湖大道180号-22

  • 入库时间 2022-09-26 23:47:52

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