Dry etching; EDP; XeFinf2/inf; wet etching;
机译:XeF2气体作释放的各向同性硅干刻蚀法制备PZT微悬臂梁及其性能。
机译:重新设计的T-PFF-V器件,用一步式各向异性化学湿法蚀刻工艺制造:连续模式中提高胶体颗粒的分离效率
机译:用于纳米技术中器件制造的各向异性湿法刻蚀工艺的水平集模拟
机译:使用XEF2和各向异性湿法蚀刻工艺对各向同性干法蚀刻工艺的比较使用EDP进行微栅极装置
机译:高性能半导体器件的选择性湿法蚀刻和腐蚀工艺的基础研究。
机译:异丙醇浓度和刻蚀时间对低电阻晶体硅晶片湿化学各向异性刻蚀的影响
机译:用于纳米技术中器件制造的各向异性湿法刻蚀工艺的水平集模拟