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机译:用于低温退火工艺的选择性硅化镍湿法刻蚀化学工艺
Low temperature annea; Nickel silicide; Wet etchback;
机译:用于低温退火工艺的选择性硅化镍湿法刻蚀化学工艺
机译:通过有机金属方法进行晶体管技术的低温湿式镍硅化物沉积
机译:低温工艺制备具有10 nm厚Ni /非晶硅层的硅化镍的性能
机译:低温退火工艺中的选择性硅化镍湿法刻蚀化学
机译:从多层反应物中选择性制备硅化镍和锗化镍。
机译:具有高性能和超薄厚度的低温可加工非晶InGaZnO薄膜晶体管的周期性脉冲湿退火方法
机译:低温量子传输测量中硅化镍和铝欧姆接触金属化的比较
机译:通过离子束混合和快速热退火形成选择性钨硅化物