公开/公告号CN103592827B
专利类型发明专利
公开/公告日2016-08-03
原文格式PDF
申请/专利权人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;
申请/专利号CN201210292492.7
发明设计人 胡春周;
申请日2012-08-16
分类号
代理机构北京市磐华律师事务所;
代理人董巍
地址 201203 上海市浦东新区张江路18号
入库时间 2022-08-23 09:44:23
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-08-03
授权
授权
2014-03-19
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/42 申请日:20120816
实质审查的生效
2014-02-19
公开
公开
机译: 高剂量离子注入后的低温干法剥离光刻胶
机译: 离子注入工艺去除光刻胶层的方法
机译: 具有图案化的光刻胶层的喷墨打印头的制造方法,该图案化的光刻胶层具有高纵横比的特征