公开/公告号CN214753770U
专利类型实用新型
公开/公告日2021-11-16
原文格式PDF
申请/专利权人 无锡紫光微电子有限公司;
申请/专利号CN202120079075.9
申请日2021-01-13
分类号H01L29/06(20060101);H01L29/78(20060101);H01L21/336(20060101);
代理机构32104 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙);
代理人曹祖良;涂三民
地址 214135 江苏省无锡市新区菱湖大道200号中国传感网国际创新园D2栋四层
入库时间 2022-08-23 01:55:25
机译: 具有结面阶梯状氧化物和沟槽接触的超结沟槽MOSFET
机译: 具有闭合单元布局且具有屏蔽栅极的超结沟槽MOSFET
机译: 超结沟槽MOSFET具有深沟槽且具有掩埋的空隙