公开/公告号CN212874491U
专利类型实用新型
公开/公告日2021-04-02
原文格式PDF
申请/专利权人 芜湖启迪半导体有限公司;
申请/专利号CN202021004350.2
申请日2020-06-04
分类号H01L29/06(20060101);H01L29/16(20060101);H01L29/165(20060101);H01L29/04(20060101);H01L29/778(20060101);
代理机构34107 芜湖安汇知识产权代理有限公司;
代理人尹婷婷
地址 241000 安徽省芜湖市弋江区高新技术产业开发区服务外包园3号楼1803
入库时间 2022-08-22 20:30:25
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-08-26
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L29/06 专利号:ZL2020210043502 变更事项:专利权人 变更前:芜湖启迪半导体有限公司 变更后:安徽长飞先进半导体有限公司 变更事项:地址 变更前:241000 安徽省芜湖市弋江区高新技术产业开发区服务外包园3号楼1803 变更后:241000 安徽省芜湖市高新技术产业开发区服务外包园3号楼1803
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
机译: SiC单晶,SiC单晶的制造方法,具有外延膜的SiC晶片,具有外延膜的SiC晶片的制造方法以及SiC电子器件
机译: SiC-单晶,具有外延膜的SiC-单晶的制造方法,SiC-晶片,具有由SiC制成的外延膜的SiC-晶片的制造方法和电子器件
机译: SiC单晶,SiC单晶的制造方法,具有外延膜的SiC水,具有外延膜的SiC晶片的制造方法以及SiC电子器件