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CMOS上的PMUT的单片集成器件

摘要

本实用新型公开了一种CMOS上的PMUT的单片集成器件,其包括作为该器件的基部的基板层(101);介电隔层(102),设置于基板层(101)的顶部,并位于保护层(103)的下方;电子线路,形成在介质电隔层(102)内,并由基板层(101)支撑,电子线路包括由一个或多个间隔开的金属(204)形成的多个金属层;以及至少一个微机械超声波换能器。每个微机械超声波换能器包括底部电极(301),其设置在保护层(103)的顶部并连接到电子线路;压电体(302)设置在底部电极(301)的顶部;顶部电极(303)设置在压电体的顶部;弹性层(304)位于顶部电极(303)的顶部。在底部电极(301)下方形成有空腔(306),其从保护层(103)延伸到介电隔层(102)的一部分。

著录项

  • 公开/公告号CN211957689U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2020-11-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 矽特拉马来西亚有限公司;

    申请/专利号CN201890000928.1

  • 申请日2018-08-21

  • 分类号H01L41/09(20060101);H01L27/20(20060101);B06B1/06(20060101);B81B3/00(20060101);

  • 代理机构11311 北京天悦专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人田明;任晓航

  • 地址 马来西亚吉打州

  • 入库时间 2022-08-22 17:59:29

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