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一种适用于RIE刻蚀的载板装置

摘要

本实用新型公开一种适用于RIE刻蚀的载板装置,属于太阳能电池技术领域,包括用于传输硅片的铝载体,还包括设置在铝载体内的若干用于放置硅片的硅片位、用于分隔硅片位的定位点、及设置在铝载体四周边缘上的若干陪片位;所述铝载体呈方形,所述硅片位具有四十个,硅片位均匀分布在所述铝载体上,通过所述定位点相互隔开;所述陪片位具有二十八个,陪片位通过定位点与所述硅片位隔开。本实用新型可实现陪片牢固的固定在载板上,不会在生产过程中发生陪片缺失,避免影响RIE刻蚀效果,有效保证工艺的稳定性,使硅片表面形成一层均匀纳米级凹坑。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-05-25

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L31/18 变更前: 变更后: 申请日:20170915

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2018-04-13

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