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一种具有N‑/N+/N+型三维结构的半导体晶圆

摘要

一种具有N‑/N+/N+型三维结构的半导体晶圆,涉及一种半导体晶圆,在半导体晶圆上设有连接层和导通层,连接层和导通层设置在半导体晶圆的任意面上,半导体晶圆是导电型号为N型的高阻区,即N‑区;连接层是导电型号为N型的高浓度区,即N+区,阵列状分布的连接体一端植入半导体晶圆内部,另一端在半导体晶圆的底面通过导通层互相连接;导通层是导电型号为N型的高浓度区,即N+区,在半导体晶圆背面,导通层上设置有保护层;本实用新型实用性强,使用起来比较简单,控制方案严密、协调、效果好、设计巧妙,易于实施,在节能的同时也极大的方便了客户的需求,同时也极大的提高半导体性能。

著录项

  • 公开/公告号CN205944097U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2017-02-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 洛阳鸿泰半导体有限公司;

    申请/专利号CN201620955817.9

  • 发明设计人 王俊;邓建伟;沈征;

    申请日2016-08-29

  • 分类号

  • 代理机构洛阳明律专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人杨淑敏

  • 地址 471023 河南省洛阳市高新区滨河路22号留学人员创业园2钢构厂房

  • 入库时间 2022-08-22 02:10:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-02-08

    授权

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