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视线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积多层膜镀膜机

摘要

一种视线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积多层膜镀膜机,它利用视线外磁过滤等离子体沉积源进行材料表面镀膜,实现多层膜镀膜。其特征在于:至少两台视线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积源以一定的夹角安装在一台真空镀膜室同一平面上,镀膜工件台可以灵活转动与等离子体沉积源工作状态配合,并在工件台上加上适当的负偏压,让不同等离子体源顺序或交替工作,实现多层镀膜功能。采用视线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积源,沉积在基体上的基本都是离子,其能量可以通过工件台负偏压方便地调节,从而方便地完成包括工件表面清洗、界面混合、镀膜等功能;通过工件台与等离子体沉积源正确配合,并使不同的等离子体沉积源顺序或交替工作,实现多层膜镀膜。如果通入反应气体,可以得到气体化合物多层膜。

著录项

  • 公开/公告号CN201132849Y

    专利类型

  • 公开/公告日2008-10-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京师范大学;

    申请/专利号CN200720155522.4

  • 申请日2007-07-05

  • 分类号C23C14/32(20060101);C23C14/14(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 100875 北京市海淀区新街口外大街19号

  • 入库时间 2022-08-21 23:00:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-10-06

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C14/32 授权公告日:20081015 申请日:20070705

    专利权的终止

  • 2008-10-15

    授权

    授权

  • 2008-04-30

    地址不明的通知 收件人:吴先映 文件名称:补正通知书 申请日:20070705

    地址不明的通知

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