磁过滤真空弧等离子体钛沉积膜的XPS研究

摘要

通过磁过滤真空弧等离子体沉积技术 ,在单晶Si和H13钢衬底上生长一层Ti沉积膜。利用扫描电镜、X射线衍射仪和X射线光电子能谱仪对膜层进行了测量和分析。结果表明 ,加上磁过滤器的沉积膜表面平整光洁 ,无“液滴”出现。在靶室真空度不高的情况下 ,膜层中的Ti以TiO的形式存在 ,并且TiO晶粒沿 <110 >方向择优取向。膜层表面的TiO进一步与大气中氧发生反应形成TiO2 。