机译:由于采用掺杂硅掺杂石墨靶,通过同轴弧等离子体沉积增强纳米碳膜膜的硬度通过同轴弧等离子体沉积
Kyushu Univ Dept Appl Sci Elect & Mat Kasuga Fukuoka 8168580 Japan|Kafrelsheikh Univ Dept Mech Engn Kafrelsheikh 33516 Egypt;
Kyushu Univ Dept Appl Sci Elect & Mat Kasuga Fukuoka 8168580 Japan|OSG Corp 2-17 Shirakumo Cho Toyokawa Aichi 4420018 Japan;
Kyushu Univ Dept Appl Sci Elect & Mat Kasuga Fukuoka 8168580 Japan|Al Azhar Univ Dept Phys Cairo 11884 Egypt;
OSG Corp 2-17 Shirakumo Cho Toyokawa Aichi 4420018 Japan;
OSG Corp 2-17 Shirakumo Cho Toyokawa Aichi 4420018 Japan;
OSG Corp 2-17 Shirakumo Cho Toyokawa Aichi 4420018 Japan;
Kyushu Univ Dept Appl Sci Elect & Mat Kasuga Fukuoka 8168580 Japan;
机译:由于采用了掺硅的石墨靶,通过同轴电弧等离子体沉积提高了硬质碳化钨基体上沉积的纳米碳膜的硬度
机译:通过同轴弧等离子体沉积在粘液碳化物基材上的超晶金刚石/非晶碳复合膜的沉积和机械性能的负偏差效应
机译:同轴电弧等离子体沉积在硬质合金碳化钨上超纳米晶金刚石/非氢化非晶碳复合膜的硬涂层
机译:硼掺杂对同轴电弧等离子体沉积沉积在硬质合金衬底上的超纳米晶金刚石/非晶碳复合膜力学性能的影响
机译:在硅和碳衬底上化学气相沉积碳化钨膜。
机译:靶成分和溅射沉积参数对沉积在聚合物基底上的氮化银-坡莫合金柔性薄膜功能性能的影响
机译:通过同轴弧等离子体沉积在硬质合金基板上沉积在硬质合金基板上的沉积和机械性能的负偏差和机械性能