公开/公告号CN103646914B
专利类型发明专利
公开/公告日2016-01-27
原文格式PDF
申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;
申请/专利号CN201310612730.2
申请日2013-11-26
分类号
代理机构上海申新律师事务所;
代理人竺路玲
地址 201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号
入库时间 2022-08-23 09:34:28
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-01-27
授权
授权
2014-04-16
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/768 申请日:20131126
实质审查的生效
2014-03-19
公开
公开
机译: 低介电常数薄膜材料,低介电常数薄膜,低介电常数薄膜的制造方法及半导体装置
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机译: 由组成低介电常数薄膜和具有该低介电常数薄膜的电子零件形成低介电常数薄膜的组成方法