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照明光学系统、曝光设备、光学元件和装置制造方法

摘要

一种照明光学系统,其在来自光源(1)的光线的基础上对要照明的表面照明,所述照明光学系统具有:第一光学路径,衍射光学元件(6)可布置于其中的第一位置处;第二光学路径,具有二维地形成阵列且个别地加以控制的多个光学元件(3a)的空间光调制器(3)可布置于其中的第二位置处;和第三光学路径,其为已通过所述第一光学路径和所述第二光学路径中的至少一者的光线的光学路径且一种分布形成光学系统(11)布置于其中。所述分布形成光学系统(11)基于已通过所述第一光学路径和所述第二光学路径中的至少一者的光线而在位于所述第三光学路径中的照明光瞳上形成预定的光强度分布。

著录项

  • 公开/公告号CN102385258B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-07-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社尼康;

    申请/专利号CN201110307567.X

  • 发明设计人 谷津修;

    申请日2008-09-10

  • 分类号

  • 代理机构北京市金杜律师事务所;

  • 代理人陈伟

  • 地址 日本东京都千代田区有乐町一丁目12番1号

  • 入库时间 2022-08-23 09:26:58

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-07-01

    授权

    授权

  • 2012-05-02

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20080910

    实质审查的生效

  • 2012-03-21

    公开

    公开

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