LAIのさらなる進化が要求する新たな照明-縮小投影型露光装置用偏光照明「POLANO」－

摘要

半導体の微細化はとどまるところを知らない。 回路線幅65ナノメートルのデバイス量産も見えてきて，LSIをめぐる技術革新はますます激しさを増している。 半導体製造装置であるステッパー（縮小投影型露光装置）は，微細化に対し投影レンズ性能の向上と光源の短波長化で対応してきた。N．A．（開口数）という指標に代表されるレンズ性能をどhどhあげていき，それが限界に達したらより波長の短い光源に移行することで，LSIの微細化を実現してきたのである。 ところが，今やそれだけでは対応しきれないほど微細化は進行している。