掺杂外延层的掺杂杂质浓度的监控方法

摘要

本发明提出了一种外延层掺杂杂质浓度的监控方法，包括：提供半导体衬底；在所述半导体衬底上形成外延结构，所述外延结构至少包括掺杂外延层；在所述外延结构上形成保护层；提供不同掺杂杂质浓度的标准外延层的折射率标准曲线和吸光率标准曲线，所述标准外延层的厚度与所述掺杂外延层的厚度相同；获得所述掺杂外延层的折射率曲线和吸光率曲线；将所述折射率曲线和吸光率曲线分别与所述折射率标准曲线和吸光率标准曲线比对，与所述折射率曲线和吸光率曲线匹配的折射率标准曲线和吸光率标准曲线对应的掺杂杂质浓度作为所述掺杂外延层的掺杂杂质的浓度。本发明提高了外延层沉积工艺的稳定性。