首页> 中国专利> 一种晶圆级封装的红外焦平面阵列器件及其制造方法

一种晶圆级封装的红外焦平面阵列器件及其制造方法

摘要

本发明涉及一种晶圆级封装的红外焦平面阵列器件及其制造方法,其包括第一衬底及第二衬底;第一衬底内设有至少一个凹槽,在凹槽的内壁及第一衬底表面覆盖有工艺阻挡层;凹槽的槽口设有共振吸收结构,共振吸收结构包括红外吸收层及反射层,反射层邻近第二衬底,且红外吸收层与反射层间设置折射介质层;在共振吸收结构的外圈依次设置形变梁、绝热梁、散热架体及吸气剂;散热架体通过绝热梁、形变梁与共振吸收结构对应连接配合;在吸气剂的外圈设置第一衬底焊料,第一衬底焊料与第二衬底上的第二衬底焊料相对应,且第一衬底与第二衬底通过第一衬底焊料及第二衬底焊料真空焊接固定连成一体。本发明结构紧凑,与IC工艺相兼容,检测精度高,制造方便。

著录项

  • 公开/公告号CN102620840B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-06-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江苏物联网研究发展中心;

    申请/专利号CN201210088446.5

  • 发明设计人 欧文;

    申请日2012-03-29

  • 分类号G01J5/10(20060101);G01J5/02(20060101);

  • 代理机构32104 无锡市大为专利商标事务所;

  • 代理人曹祖良

  • 地址 214135 江苏省无锡市新区菱湖大道200号中国传感网国际创新园C座

  • 入库时间 2022-08-23 09:14:41

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-08-16

    专利权的转移 IPC(主分类):G01J 5/10 登记生效日:20190726 变更前: 变更后: 申请日:20120329

    专利申请权、专利权的转移

  • 2013-06-12

    授权

    授权

  • 2013-06-12

    授权

    授权

  • 2012-09-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01J5/10 申请日:20120329

    实质审查的生效

  • 2012-09-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01J 5/10 申请日:20120329

    实质审查的生效

  • 2012-08-01

    公开

    公开

  • 2012-08-01

    公开

    公开

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