首页> 中国专利> 光学邻近效应校正的方法

光学邻近效应校正的方法

摘要

本发明提供一种光学邻近效应校正的方法,获取需光学邻近效应校正的目标图形和第一菜单参数,第一菜单参数用于控制目标图形校正后的模拟轮廓,模拟轮廓位于目标图形外的面积差定义为代价函数;形成与目标图形的轮廓边缘相贴合且连续的线段,设置标记点于线段上,之后利用算法生成多组不同位置的标记点,得到每组标记点对应的代价函数;选择多组代价函数中数值最小的标记点和线段的参数,并根据其得到第二菜单参数;根据第二菜单参数对目标图形进行光学邻近效应校正。本发明应用“基因算法”优化光学临近效应的菜单参数,使校正后的图形轮廓更平滑,更符合目标图形。

著录项

  • 公开/公告号CN115100047A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-09-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力集成电路制造有限公司;

    申请/专利号CN202210624948.9

  • 发明设计人 廖显煌;曾鼎程;胡展源;

    申请日2022-06-02

  • 分类号G06T5/00;

  • 代理机构上海浦一知识产权代理有限公司;

  • 代理人刘昌荣

  • 地址 201203 上海市浦东新区良腾路6号

  • 入库时间 2023-06-19 16:56:28

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-23

    公开

    发明专利申请公布

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号