公开/公告号CN115100047A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-09-23
原文格式PDF
申请/专利权人 上海华力集成电路制造有限公司;
申请/专利号CN202210624948.9
申请日2022-06-02
分类号G06T5/00;
代理机构上海浦一知识产权代理有限公司;
代理人刘昌荣
地址 201203 上海市浦东新区良腾路6号
入库时间 2023-06-19 16:56:28
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-09-23
公开
发明专利申请公布
机译: 光学邻近效应校正方法,光学邻近效应校正装置,光学邻近效应校正程序,制造半导体装置的方法,图案设计限制开发方法和光学邻近效应校正的计算方法
机译: 光学邻近效应校正方法和装置,光学邻近效应验证方法和装置,曝光掩模的制造方法,进一步的光学邻近效应校正程序和光学邻近效应验证程序
机译: 光学邻近效应校正方法和装置,光学邻近效应验证方法和装置,制造曝光掩模的方法以及光学邻近效应校正程序和光学邻近效应验证程序