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一种原子级厚度的铋氧基铁电薄膜及其制备工艺

摘要

本发明属于凝聚态物理、原子尺度铁电薄膜领域,涉及到一种原子级厚度的铋氧基铁电薄膜及其制备工艺。该铁电薄膜是以三层Bi‑O层为周期的铋氧基薄膜,结构为稳定的类四方相结构,其分子式为Bi(2‑x)MexO3,其中,x的取值为:0.1≤x≤0.6,Me为镧系元素。制备工艺为:将Bi与Me以相应的摩尔比配制成前驱体溶液,将溶液旋涂在基底上,经过干燥、退火后,得到这种新型层状铁电薄膜。本发明通过简单的溶胶‑凝胶法制备得到的原子级厚度铁电薄膜。在前驱液成分精准控制的前提下,可以通过控制前驱液的浓度、转速和湿度等因素制备出不同厚度的低尺寸薄膜。该系列薄膜表面平整、铁电性能优异,有望实现大面积应用。

著录项

  • 公开/公告号CN114014648A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京科技大学;

    申请/专利号CN202111456088.4

  • 发明设计人 张林兴;杨倩倩;贺卓平;田建军;

    申请日2021-12-01

  • 分类号C04B35/453(20060101);C04B35/50(20060101);C04B35/622(20060101);C04B35/624(20060101);H01L27/1159(20170101);

  • 代理机构11401 北京金智普华知识产权代理有限公司;

  • 代理人岳野

  • 地址 100083 北京市海淀区学院路30号

  • 入库时间 2023-06-19 14:08:07

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