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公开/公告号CN113584578A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-11-02
原文格式PDF
申请/专利权人 昆明物理研究所;
申请/专利号CN202110807542.X
发明设计人 杨春章;李艳辉;覃钢;杨晋;陈卫业;赵俊;孔金丞;李东升;雷文;
申请日2021-07-16
分类号C30B23/02(20060101);C30B29/48(20060101);
代理机构53115 昆明今威专利商标代理有限公司;
代理人赛晓刚;赵云
地址 650221 云南省昆明市五华区教场东路31号
入库时间 2023-06-19 13:07:23
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-02-10
授权
发明专利权授予
机译: 丙烯醛丙烯酸,聚合物的制备方法,丙烯醛,丙烯酸,聚合物的制备设备,卫生用品,丙烯醛和丙烯酸的用途,纤维,薄膜,组合物,模塑品,辅助纺织品和皮革,絮凝剂。涂料,油墨或清漆,泡沫材料,电缆,密封剂,植物支持。用于真菌生长调节剂或培养物保护剂,建筑材料添加剂,包装材料或土壤添加剂,甘油相的纯化工艺。
机译: 用于液相表皮生长的垂直型设备
机译: 用于有机金属热分解法的垂直型蒸气生长设备
机译:通过固体源分子束外延生长的高质量830 nm材料用于激光设备印刷应用
机译:自旋电子学材料的受邀演讲:用于GaAs半导体上Fe超薄膜的异位磁弹性研究的分子束外延生长系统的实现
机译:<薄膜>材料与材料研究机构开发了新技术,用于在玻璃等基材上定向和生长高质量的钙钛矿型氧化物薄膜
机译:使用批量型设备进行硅层的选择性外延生长,用于下一代存储器的垂直二极管应用
机译:分子束外延生长外延汞碲化镉薄膜中砷的掺入和P型掺杂的研究。
机译:垂直盘状液晶的自对准用于纳米多孔聚合物薄膜
机译:错误至:用于垂直结构发光二极管的分子束外延生长N型GaN的Ti / Al欧姆触点的电特性
机译:适用于垂直磁记录的外延生长Co和Co-Cr薄膜的微观磁性和微观结构