具有用于局部影响基座温度的器件的CVD反应器

摘要

本发明涉及一种用于对基材进行热处理的设备和方法，设备具有可由加热装置(13)加热的和可由转动驱动器(20)围绕转动轴线(A)转动驱动的用于容纳至少一个基材的基座(5)。为了补偿转动的基座(5)上的局部的温度差异，设置有器件(14、14’、15、16)，所述器件用于局部限制从或到基座(5)的热传输，并且与基座(5)的转动运动同步地影响热传输。尤其规定，通过馈入开口(14’)以脉冲方式周期性地将具有变化的导热特性的调温气体馈入基座(5)和冷却机组(30)之间的间隙(10)中。