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工艺自补偿CMOS电压基准源及其设计方法

摘要

本发明提供一种工艺自补偿CMOS电压基准源及其设计方法,包括分别计算MOS晶体管在无衬底偏置效应下和有衬底偏置效应下的阈值电压,将阈值电压在SS工艺角到FF工艺角的变化拟合为对应的线性方程;计算晶体管间产生的CTAT电压并将CTAT电压与由不同MOS晶体管的宽长比与热电压的乘积产生的PTAT电压相加得到一个与温度系数无关的电压;结合线性方程对得到的与温度系数无关的电压进行分析,实现对工艺偏差影响的消除。本发明提出一种工艺自补偿CMOS电压基准源及其设计方法,通过利用衬底偏置效应补偿工艺偏差技术,设计出不使用三极管的CMOS电压基准源,实现低电压低功耗工作。

著录项

  • 公开/公告号CN113325914A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广东工业大学;

    申请/专利号CN202110574096.2

  • 发明设计人 周杨润;余凯;李思臻;

    申请日2021-05-25

  • 分类号G05F1/567(20060101);

  • 代理机构44102 广州粤高专利商标代理有限公司;

  • 代理人刘俊

  • 地址 510090 广东省广州市越秀区东风东路729号

  • 入库时间 2023-06-19 12:24:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-22

    授权

    发明专利权授予

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