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具有电阻变化结构的三维非易失性存储器件及其操作方法

摘要

非易失性存储器件包括具有上表面的衬底和设置在该衬底上方的沟道结构。所述沟道结构包括至少一个沟道层图案和至少一个层间绝缘层图案,二者在垂直于所述上表面的第一方向上交替地层叠,并且所述沟道结构在垂直于第一方向的第二方向上延伸。所述非易失性存储器件包括:电阻变化层,其设置在所述衬底上方并且在所述沟道结构的一个侧壁表面的至少一部分上;栅极绝缘层,其设置在所述衬底上方并且在所述电阻变化层上;以及多个栅极线结构,其设置在所述衬底上方,各自与所述栅极绝缘层的第一表面接触,并且被设置成在第二方向上彼此间隔开。

著录项

  • 公开/公告号CN113130532A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 爱思开海力士有限公司;

    申请/专利号CN202010721299.5

  • 发明设计人 韩在贤;李世昊;刘香根;

    申请日2020-07-24

  • 分类号H01L27/24(20060101);H01L45/00(20060101);

  • 代理机构11363 北京弘权知识产权代理有限公司;

  • 代理人郭放;许伟群

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2023-06-19 11:52:33

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-11-07

    授权

    发明专利权授予

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