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一种具有寄生二极管的MOS栅控晶闸管及其制造方法

摘要

本发明涉及功率半导体技术领域,具体的说是适用于脉冲功率领域的一种具有寄生二极管的MOS栅控晶闸管及其制造方法。本发明主要通过改进常规MOS栅控晶闸管的器件结构,在栅极与阴极之间引入寄生二极管,避免了MOS栅控晶闸管应用于脉冲功率领域时因栅介质击穿导致脉冲系统发生失效,以及静电放电时因栅介质击穿导致器件失效的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN112563326A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN202011463075.5

  • 发明设计人 陈万军;张舒逸;刘超;张波;

    申请日2020-12-14

  • 分类号H01L29/749(20060101);H01L29/74(20060101);H01L21/332(20060101);

  • 代理机构51232 成都点睛专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人孙一峰

  • 地址 611731 四川省成都市高新西区西源大道2006号

  • 入库时间 2023-06-19 10:24:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-17

    授权

    发明专利权授予

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