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公开/公告号CN112563326A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-03-26
原文格式PDF
申请/专利权人 电子科技大学;
申请/专利号CN202011463075.5
发明设计人 陈万军;张舒逸;刘超;张波;
申请日2020-12-14
分类号H01L29/749(20060101);H01L29/74(20060101);H01L21/332(20060101);
代理机构51232 成都点睛专利代理事务所(普通合伙);
代理人孙一峰
地址 611731 四川省成都市高新西区西源大道2006号
入库时间 2023-06-19 10:24:22
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-05-17
授权
发明专利权授予
机译: 具有确定的导通特性的双深度沟槽栅控MOS晶闸管
机译: 半导体器件及其制造方法,MOS栅-栅驱动晶闸管
机译: 具有减少的掩模数量的mos栅控器件的制造方法
机译:采用先栅工艺制造的具有0.95nm EOT的HfN-HfO {sub} 2门控nMOSFET的改进的电气和可靠性特性
机译:一种基于双掺杂层和双发光层并具有有效空穴陷阱结构的高效蓝色有机发光二极管的简单制造方法
机译:离焦激光烧蚀过程 - 一种制造MOO3-MO一体化阳极的高效率方法,具有优异的锂离子电池的电化学性能
机译:采用倾斜旋转注入(ORI)方法的自对准双栅(MOSFET)垂直MOSFET,具有减小的寄生电容
机译:使用集总电荷方法的功率二极管和MOS控制晶闸管的基于物理模型。
机译:栅可调并五苯/ MoS2 p-n异质结二极管的陷阱介导电子输运性质
机译:一种快速开关绝缘栅p-I-N二极管控制晶闸管结构
机译:sILICON-sappHIRE中的栅控二极管计算机模拟