可减小由电容边缘效应导致的电容-位移之间的非线性的栅结构

摘要

本发明公开了一种可减小由电容边缘效应导致的电容‑位移之间的非线性的栅结构，所述的栅结构的两个侧面与靠近金属电极的底面形成的夹角小于90°。本发明通过对微机械陀螺仪中的栅结构形状进行改进，将栅结构的两个垂直侧面优化为与底面形成夹角，可有效减小由电容边缘效应导致的电容‑位移之间的非线性。