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CdZnTe/CdTe/AlN复合结构、日盲区紫外探测器件和其制备方法

摘要

本发明提供了一种提供CdZnTe/CdTe/AlN复合结构、日盲区紫外探测器和其制备方法,其外延层包括由下至上依次设置的p型AlN衬底、CdTe过渡层和n型CdZnTe膜,所述p型AlN衬底上引出p型欧姆电极,所述n型CdZnTe膜上引出n型欧姆电极。本发明提供的CdZnTe/CdTe/AlN基日盲区紫外光探测器制备方法包括衬底预处理、CdTe过渡层的溅射过程、CdZnTe薄膜的生长过程、CdZnTe/CdTe/AlN基日盲区紫外光探测器的电极制作4个主要步骤。本发明方法能在CdTe/AlN衬底上快速生长大面积、低缺陷浓度的CdZnTe薄膜,CdTe/AlN衬底能保证CdZnTe/CdTe/AlN基日盲区紫外光探测器在极端环境下的使用,所制得的CdZnTe/CdTe/AlN垂直电导结构有着较低的漏电流,对日盲区紫外光也有着较强的光响应。

著录项

  • 公开/公告号CN112103355A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-12-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海大学;

    申请/专利号CN202010898530.8

  • 申请日2020-08-31

  • 分类号H01L31/0352(20060101);H01L31/0296(20060101);H01L31/109(20060101);H01L31/18(20060101);

  • 代理机构31205 上海上大专利事务所(普通合伙);

  • 代理人顾勇华

  • 地址 200444 上海市宝山区上大路99号

  • 入库时间 2023-06-19 09:13:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-04-25

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L31/0352 专利申请号:2020108985308 申请公布日:20201218

    发明专利申请公布后的驳回

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