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用于内衬钴的特征的铜电沉积序列

摘要

在一示例中,电镀系统包括第一浴槽、第二浴槽、夹具、第一浴槽中的第一阳极、第二浴槽中的第二阳极和直流电源。第一浴槽容纳第一电解质溶液,该第一电解质溶液包括碱性铜复合溶液。第二浴槽容纳第二电解质溶液,该第二电解质溶液包括酸性镀铜溶液。直流电源在夹具和第一阳极之间产生第一直流电流,以在浸入第一电解质溶液中的晶片的钴层上电镀第一铜层。然后,直流电源在夹具和第二阳极之间产生第二直流电,以在浸入第二电解质溶液中的晶片的第一铜层上电镀第二铜层。

著录项

  • 公开/公告号CN111936674A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-11-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 朗姆研究公司;

    申请/专利号CN201980024329.2

  • 申请日2019-03-29

  • 分类号C25D17/00(20060101);C25D17/02(20060101);C25D3/38(20060101);C25D5/54(20060101);C25D5/10(20060101);C25D5/18(20060101);C25D7/12(20060101);H01L21/288(20060101);

  • 代理机构31263 上海胜康律师事务所;

  • 代理人樊英如;张华

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-06-19 08:52:00

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