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Formação e Caracterização de Eletrodepósitos de Cobre, Cobalto-cobre e Multicamadas Cobalto-cobre a Partir de Baterrias Íon-li Exauridas

机译:耗尽的锂离子电池中铜,钴铜和多层钴铜电沉积物的形成和表征

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摘要

Neste trabalho foram estudados os processos de formação e caracterização de eletrodepósitos de cobre, Co-Cu e multicamadas Co-Cu, a partir da reciclagem de baterias exauridas de íon-Li. Para a eletrodeposição de cobre, a eficiência de carga máxima é obtida na faixa de 3,0 a 5,0 C cm-2, com cerca de 98,0% em valores de pH = 2,0 e 4,5. Pelas medidas de MECQ para o cobre, ocorre um mecanismo simultâneo entre a deposição direta e a redução a partir de Cu+. Em ambas as condições de pH, a presença do Cu2O é originada pela alcalinização da interface eletrodo/solução. O circuito equivalente do sistema, obtido por EIE resultou em Rs(RpQ)W. A presença do elemento difusional W é relativo à difusão dos íons H+ da solução para os poros do eletrodepósito. O elemento de fase constante está associado com a heterogeneidade da superfície. As medidas de MEV resultaram em regiões de micro e macroporosidade. Na análise por EDX observa-se que a superfície é composta majoritariamente por cobre. Medidas de DRX em pH = 2,0 e 4,5 resultaram nas direções [111] e [200], características da estrutura CFC de cobre metálico, com a presença da direção [002] relativa a Cu2O. Com o aumento da densidade de carga, ocorre uma diminuição da intensidade relativa aos picos de cobre metálico e a detecção da direção [110], também relativa a Cu2O. A eletrodeposição de Co-Cu resultou em um mecanismo de deposição de Co com formação de Co(OH)2 e cobre com a presença de Cu+. O circuito equivalente obtido foi Rs(RpQ)W, com W referente á difusão de íons H+ da solução para a interface metal/eletrodo. A caracterização por MEV resultou em eletrodepósitos microporosos em pH = 2,7 e com microporosidade e crescimento perpendicular ao substrato em pH = 5,4. Pela técnica de EDX, observou-se uma quantidade de Co e Cu cerca de 2 vezes maior na superfície em pH = 2,7 do que em pH = 5,4. As direções cristalográficas obtidas por DRX indicam tanto ao cobre quanto ao cobalto preferencialmente na estrutura CFC. As multicamadas Co-Cu foram estudadas em diferentes substratos (Al, Pt e CV). Medidas de EIE apresentaram um indutor L no circuito equivalente Rs(RpQ)L, relacionado com a dissolução do depósito de cobalto. Medidas de MEV, EDX e DRX mostraram que em pH = 2,7 os eletrodepósitos ocorrem preferencialmente por crescimento 2D com maior recobrimento do substrato e em pH = 5,4 um crescimento simultâneo 2D e 3D, com regiões de micro e macroporosidade, e que os depósitos são formados majoritariamente por Co e Cu, sendo detectado o substrato de Al. Tanto o cobre quanto o cobalto são depositados preferencialmente na estrutura CFC.Palavras chaves: baterias íon-Li, cobalto, cobre
机译:在这项工作中,基于废锂离子电池的回收利用,研究了铜,钴铜和多层钴铜电极的形成和表征过程。对于铜电沉积,在3.0至5.0 C cm-2的范围内可获得最大充电效率,在pH值= 2.0和4.5时约为98.0%。通过对铜的MECQ措施,在直接沉积和从Cu +还原之间存在着同时的机制。在两种pH条件下,Cu2O的存在都是由电极/溶液界面的碱化引起的。由EIE获得的系统等效电路得出Rs(RpQ)W。扩散元素W的存在与H +离子从溶液到电沉积孔的扩散有关。恒定相元素与表面的异质性有关。 MEV测量导致微孔和大孔区域。在通过EDX进行的分析中,观察到表面主要由铜组成。在pH = 2.0和4.5时进行XRD测量得出的方向[111]和[200]是金属铜CFC结构的特征,相对于Cu2O的方向[002]。随着电荷密度的增加,相对于铜金属峰的强度降低,并且方向[110]的检测也相对于Cu2O降低。 Co-Cu的电沉积导致形成Co(OH)2和形成Cu +并形成Cu的Co沉积机理。获得的等效电路为Rs(RpQ)W,其中W表示H +离子从溶液到金属/电极界面的扩散。 SEM表征导致在pH = 2.7的微孔电沉积和在pH = 5.4的垂直于底物的微孔和生长。通过EDX技术,在pH = 2.7时观察到Co和Cu的量是pH = 5.4时的约2倍。通过XRD获得的晶体学方向优选在CFC结构中指示铜和钴。在不同的基材(Al,Pt和CV)上研究了Co-Cu多层膜。 EIE测量显示等效电路Rs(RpQ)L中的电感器L与钴沉积的溶解有关。 MEV,EDX和DRX测量表明,在pH = 2.7时,电沉积优选通过2D生长而出现,并具有更大的底物覆盖率;而在pH = 5.4时,则同时发生2D和3D生长,并具有微孔和大孔区域,并且沉积物主要是由钴和铜形成的,被检测到的是Al的基质,铜和钴都优先沉积在CFC结构中。

著录项

  • 作者

    CELANTE V. G.;

  • 作者单位
  • 年度 2009
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