首页> 中国专利> 一种旋转式双温区PVT法高质量单晶制备装置及方法

一种旋转式双温区PVT法高质量单晶制备装置及方法

摘要

一种旋转式双温区PVT法高质量单晶制备装置及方法,属于半导体制造装置和工艺技术领域。本发明包括上保温材料、上加热模块、籽晶、坩埚上盖、坩埚体、反应原料、下加热模块和下保温材料,所述上保温材料上开有测温窗,上保温材料的下端面设有上加热模块,下保温材料的端面上开有测温窗,下保温材料的内壁上设有凸起,坩埚上盖放置在下保温材料的凸起上,坩埚上盖与坩埚体连接,坩埚上盖与坩埚体之间具有籽晶,反应原料放置在坩埚体内腔中,下保温材料的内侧具有下加热模块。本发明结构简单,且在制备晶体时对反应原料加热更加充分,对反应原料温度控制更加有效。

著录项

  • 公开/公告号CN111621844A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 哈尔滨化兴软控科技有限公司;

    申请/专利号CN202010574531.7

  • 发明设计人 不公告发明人;

    申请日2020-06-22

  • 分类号C30B23/00(20060101);C30B29/38(20060101);C30B29/36(20060101);

  • 代理机构23209 哈尔滨市伟晨专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人陈润明

  • 地址 150000 黑龙江省哈尔滨市南岗区哈西大街香缇雅诺博睿之星孵化器

  • 入库时间 2023-06-19 08:11:16

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号