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一种具有高势垒插入层的晶体管器件

摘要

本发明公开了一种具有高势垒插入层的晶体管器件,包括设有沟道层和栅电极的垂直场效应晶体管,在所述沟道层任一表面或沟道层内设有高势垒插入层,所述的高势垒插入层与沟道层电性连接且与栅电极绝缘连接,所述的高势垒插入层用于在栅电极的调控下,控制电子在沟道层内的迁移。所述垂直场效应晶体管包括依次层叠的漏电极、衬底、耐压层、沟道层、接触层;所述接触层远离沟道层的表面设有源电极;所述凹槽自接触层远离沟道层表面向耐压层方向延伸至耐压层内部。本发明所述晶体管器件通过设置高势垒插入层用于调控沟道中的电子输运,设置删电极调控高势垒插入层的势垒,使得所述晶体管器件同时具备高耐压和低导通电阻的特性。

著录项

  • 公开/公告号CN108417629A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-08-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广东省半导体产业技术研究院;

    申请/专利号CN201810443074.0

  • 申请日2018-05-10

  • 分类号

  • 代理机构广州市越秀区海心联合专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人黄为

  • 地址 510000 广东省广州市天河区长兴路363号LED院

  • 入库时间 2023-06-19 06:13:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-09-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/778 申请日:20180510

    实质审查的生效

  • 2018-08-17

    公开

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