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非晶质透明导电性薄膜、以及晶质透明导电性薄膜和其制造方法

摘要

非晶质透明导电性薄膜在厚度方向依次具备透明基材和非晶质透明导电层。非晶质透明导电层由非晶质的铟锡复合氧化物形成。非晶质透明导电层的厚度为30nm以上且40nm以下,非晶质透明导电层的电阻率为6.0×10

著录项

  • 公开/公告号CN108352218A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-07-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日东电工株式会社;

    申请/专利号CN201680065829.7

  • 申请日2016-10-25

  • 分类号

  • 代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘新宇

  • 地址 日本大阪府

  • 入库时间 2023-06-19 06:31:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-11-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01B5/14 申请日:20161025

    实质审查的生效

  • 2018-07-31

    公开

    公开

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