用于在基板上真空沉积的设备和系统以及用于在基板上真空沉积的方法

摘要

本公开内容提供了用于真空沉积在基板上的设备(100)。设备(100)包括：真空腔室(110)，具有第一区域(112)和第一沉积区域(114)；一个或多个沉积源(120)，位于第一沉积区域(114)，其中所述一个或多个沉积源(120)经构造以用于当至少第一基板(10)沿着第一运输方向(1)运输通过所述一个或多个沉积源(120)时，在所述至少第一基板(10)上真空沉积；和第一基板运输单元(140)，位于第一区域(112)中，其中第一基板运输单元(140)经构造以用于在第一区域(112)中在与第一运输方向(1)不同的第一轨道切换方向(4)上移动所述至少第一基板(10)。