用于保持在真空沉积工艺中使用的基板的设备、用于基板上的层沉积的系统、以及用于保持基板的方法

摘要

本公开内容提供了一种用于在真空沉积工艺中保持基板(10)或掩模的设备(100)。所述设备(100)包括：一个或多个第一电极和一个或多个第二电极，可连接到第一电源组件(230)；和一个或多个第三电极，布置在所述一个或多个第一电极与所述一个或多个第二电极之间并且可连接到第二电源组件(240)。