公开/公告号CN108110009A
专利类型发明专利
公开/公告日2018-06-01
原文格式PDF
申请/专利权人 意法半导体(鲁塞)公司;
申请/专利号CN201711106086.6
申请日2017-11-10
分类号
代理机构北京市金杜律师事务所;
代理人王茂华
地址 法国鲁塞
入库时间 2023-06-19 05:31:18
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-06-26
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/11568 申请日:20171110
实质审查的生效
2018-06-01
公开
公开
机译: 电荷俘获层,形成电荷俘获层的方法,使用该电荷俘获层的非易失性存储器件以及制造该非易失性存储器件的方法
机译: 在电荷俘获电介质闪存器件中形成具有降低的氢含量的栅叠层隔离物和电荷存储材料的方法
机译: 具有硅纳米晶的电荷俘获层的制造方法,非易失性存储器件以及使用该器件制造非易失性存储器件的方法