首页> 中国专利> 部分刻蚀的相变光学元件

部分刻蚀的相变光学元件

摘要

一种光学元件(透射式或反射式),包括透射层,该透射层包括两种不同的光学介质,这两种不同的光学介质被布置在沿着层布置的离散块之中。该离散块被布置成接近所期望的相位函数(通常取2π模数)并且该离散块小于工作波长,以便提供所需要的相位延迟的范围以充分地接近所期望的相位函数。

著录项

  • 公开/公告号CN107683426A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-02-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 菲尼萨公司;

    申请/专利号CN201680031918.X

  • 申请日2016-04-08

  • 分类号G02B5/18(20060101);

  • 代理机构11270 北京派特恩知识产权代理有限公司;

  • 代理人杨雅;姚开丽

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-06-19 04:34:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-03-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B5/18 申请日:20160408

    实质审查的生效

  • 2018-02-09

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号