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王洪祥; 李成福; 周岩; 袁志刚; 徐曦; 钟波;
哈尔滨工业大学机电工程学院,哈尔滨150001;
中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳621900;
化学刻蚀; 亚表面缺陷; 激光损伤阈值; 熔石英元件; 兆声辅助刻蚀;
机译:铜辅助化学刻蚀在多晶硅上倒金字塔状结构的取向和光学性质
机译:氟化铵金属辅助化学刻蚀制备硅纳米线阵列的结构和光学性质
机译:Pt辅助化学刻蚀制备无掺杂多孔GaN的结构和光学研究
机译:化学刻蚀对熔融石英光学元件表面质量和激光损伤阈值的影响
机译:使用干涉滤光片作为非线性光学逻辑门并使用全息光学元件作为光学互连的光学计算。
机译:金属辅助化学刻蚀对X射线光学器件的微细加工
机译:金属辅助光化学化学刻蚀产生的GaN纳米线的合成,光学性能和残余应变效应
机译:用于集成光学元件的有源薄膜光学元件。
机译:光学设备包括使用垂直纳米线的金属辅助化学刻蚀方法及其制造方法。
机译:以及一种用于制造用于模制具有光学辅助元件的模制件的方法,该光学元件具有精确定位在图案中的光学辅助元件,一种用于实现该方法的装置
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