公开/公告号CN107301967A
专利类型发明专利
公开/公告日2017-10-27
原文格式PDF
申请/专利权人 武汉华星光电技术有限公司;
申请/专利号CN201710556671.X
申请日2017-07-10
分类号
代理机构深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人李庆波
地址 430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
入库时间 2023-06-19 03:38:37
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-05-08
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L21/67 申请公布日:20171027 申请日:20170710
发明专利申请公布后的驳回
2017-11-24
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/67 申请日:20170710
实质审查的生效
2017-10-27
公开
公开
机译: 定位用于在干法蚀刻期间进行掩膜的掩膜装置以及用于在干法蚀刻期间对要构造的基板进行掩膜的方法
机译: 用于干法蚀刻衬底表面的限制装置和干法蚀刻晶片表面的方法
机译: 用于金属掩模的金属掩模的制造方法干法蚀刻,深沟干法蚀刻