Chromium; Electron beam lithography; Etched crystals; Lithium niobates; Photonic crystals; Aspect ratio; Fabrication; Optoelectronics; Patterns; Photonic crystal fabrication; Pattern transfers; Chromium masks; Wet etching; Dry etching; Oxygen plasma etching;
机译:通过湿式和干式蚀刻铬掩模上的图案转移,在铌酸锂中制造光子晶体
机译:通过湿式和干式蚀刻铬掩模上的图案转移,在铌酸锂中制造光子晶体
机译:基于具有润湿性图案的空心球胶体光子晶体的实时生物测定光微流体的制备
机译:用干燥蚀刻工艺制造氟掺杂二氧化硅膜的光子晶体结构
机译:集成电路图案的快速生成和3D光子晶体的高保真度制造。
机译:局部表面等离子体共振的湿蚀金纳米结构的轮廓预测和制备
机译:用Si3N4膜掩模制造图案化铁磁薄膜。