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光刻图案化工艺和在其中使用的抗蚀剂

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摘要

公开了一种抗蚀剂组合物，其包括具有有着选自ABX

1. 光刻图案化工艺和在其中使用的抗蚀剂 [P] . 中国专利： CN107111227B . 2021.03.23
2. 光刻图案化工艺和在其中使用的抗蚀剂 [P] . 中国专利： CN107111227A . 2017-08-29
3. A lithography patterning process and a resist used in the process [P] . 韩国专利： KR20170098307A . 2017-08-29

机译：光刻图案化工艺和在该工艺中使用的抗蚀剂
4. METHOD OF MANUFACTURING PATTERNED STAMP FOR PATTERNING CONTOURED SURFACE, PATTERNED STAMP FOR USE IN IMPRINT LITHOGRAPHY PROCESS, IMPRINT LITHOGRAPHY METHOD, ARTICLE COMPRISING PATTERNED CONTOURED SURFACE AND USE OF A PATTERNED STAMP FOR IMPRINT LITHOGRAPHY [P] . TR201909168T4 . 2019-07-22

机译：制作用于图案化曲面的图案化印章的方法，用于光刻工艺的图案化印章，印刷光刻法，包含图案化的曲面的制品以及用于光刻法的图案化印章的使用
5. Lithographic patterning process and resist used in the process [P] . 日本专利： JP6637943B2 . 2020-01-29

机译：光刻图案化工艺及在工艺中使用的抗蚀剂